英偉達安培顯卡采用三星10nm工藝,支持光線追蹤
2020-03-12 16:39
來源:
IT之家
根據(jù)外媒報道,爆料消息稱英偉達的下一代GPU架構(gòu)將基于三星10nm制程,而不是之前報道的臺積電7nm工藝,據(jù)稱使用的10nm制程更接近于三星提供的8LPP技術(shù),另外新的Tegra芯片也將使用相同的制程。
外媒表示,英偉達安培架構(gòu)曝光的GPU有GA102、GA103、GA104、GA106和GA1075款,配置最高的是GA102。報道還稱英偉達新款GPU將全部支持RTX(實時光線跟蹤),這意味著英偉達在安培架構(gòu)上對RT核心設計進行升級,使其在性能較弱的顯卡中也能實現(xiàn)光線追蹤的效果。
相關(guān)人士提供的信息顯示,配置最低的GA107為1280流處理器,4GB顯存,最高的GA102 GPU為5376流處理器,12GB顯存,其中GA102比上代的RTX 2080Ti性能提升了40%。
受到疫情的影響,英偉達曾宣布將月底GTC的大會改為線上直播。根據(jù)外媒anandtech的最新消息,GTC線上直播也將取消,英偉達將會采用新聞稿的形式公布新品,時間定在3月24日。

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