2020年中國光刻機產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀和競爭分析
2020-08-12 10:48
前瞻網(wǎng)
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產(chǎn)業(yè)鏈——在半導體產(chǎn)業(yè)中占據(jù)重要地位
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導體產(chǎn)業(yè)中最關鍵設備，光刻工藝決定了半導體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。
光刻機產(chǎn)業(yè)的上游主要包括光刻機核心組件和光刻機配套設施，下游則主要應用于半導體／集成電路的制造與封裝。
產(chǎn)業(yè)政策——政策助力光刻機行業(yè)發(fā)展
從政策環(huán)境上來看，我國對于光刻機行業(yè)較為重視。其主要表現(xiàn)在對于整個IC產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的政策優(yōu)待以及對于半導體設備行業(yè)的相關規(guī)劃與推動。其主要表現(xiàn)在資金方面的補助和人才方面的培養(yǎng)，以及進出口，投融資方面的政策扶持。
在各項政策中較為突出的是《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》項目（02專項），其以專項的形式組織了一批國內光刻機企業(yè)進行了一系列重點工藝和技術的攻關，有效促進了我國光刻機行業(yè)的發(fā)展。
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