中國光刻膠行業(yè)主要上市公司：飛凱材料（300398）、容大感光（300576）、廣信材料（300537）、上海新陽（300236）、永太科技（002326）、雅克科技（002409）、江化微（603078）等。

本文核心數據：中國半導體光刻膠自給率等

1、光刻膠是典型的高技術壁壘行業(yè)

光刻膠是電子化學品中技術壁壘最高的材料，具有純度要求高、生產工藝復雜、生產及檢測等設備投資大、技術積累期長等特征。從相關技術來看，光刻膠的核心技術包括配方技術、質量控制技術和原材料技術，配方技術是光刻膠實現功能的核心，而質量控制技術能夠保證光刻膠性能的穩(wěn)定性，而光刻膠原材料的品質對光刻膠的質量起著關鍵作用。

2、半導體光刻膠自給率低、主要由日企滿足

半導體光刻膠屬于光刻膠高端產品，受技術限制，當前，我國半導體光刻膠需求主要由外資企業(yè)來滿足，2020年，外資企業(yè)的市場份額達71％。

從不同光刻膠產品的自給率來看，目前適用于6英寸硅片的g線、i線光刻膠的自給率約為20％，適用于8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5％，而適用于12寸硅片的ArF光刻膠基本依靠進口，光刻膠國產化任重道遠。

3、半導體光刻膠國產化“難”在何處？

——研發(fā)設備：成本高昂且依賴進口

光刻膠生產需要光刻機進行配套測試，因此，光刻機是光刻膠研發(fā)中必不可少的一環(huán)。根據晶瑞電材于2021年8月公布的集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目信息，該研發(fā)項目投資總額為48850萬元，其中設備及安裝費占總投資額的69％，而光刻機（進口ASML光刻機）就占設備及安裝費的44％，達1．5億元，可以看出，光刻機是光刻膠研發(fā)項目中成本最高的一環(huán)。

除了成本高昂以外，我國高端光刻機幾乎依賴進口，目前國內僅有1家高端光刻機生產企業(yè)上海微裝，成功研發(fā)出極紫外線光刻機。在全球市場中，荷蘭的阿斯麥處于王者之位，尤其是在高端光刻機市場，更是處于壟斷地位，2018年以來，該公司的EUV光刻機價格也不斷上揚，2021年7月4日，約為1．54億歐元／臺。

——核心原材料“受制于人”

原料是光刻膠產業(yè)的重要環(huán)節(jié)，原料的品質也決定了光刻膠產品品質，主要原料包括樹脂、光引發(fā)劑、溶劑和單體等。

我國對光刻膠及專用化學品的研究起步較晚，但國家層面非常重視，從“六五計劃”至今都一直將光刻膠列為國家高新技術計劃、國家重大科技項目。盡管取得了一定成果，但技術水平仍與國際水平相差較大，作為原料的主要專用化學品仍然需要依賴進口：

——客戶驗證周期長、不確定性較大

光刻膠技術壁壘較高且其功能性和產品質量直接影響電子元器件、部件的功能和穩(wěn)定性，一旦出現質量問題會給下游客戶帶來不可估量的嚴重損失，下游客戶對光刻膠專用化學品供應商的選擇非常謹慎，通常采用認證采購的模式，認證所需時間周期較長。

由于光刻膠產品的功能及質量將直接影響電子元器件、部件的功能和穩(wěn)定性，下游客戶對光刻膠專用化學品供應商的選擇非常謹慎，通常采用認證采購的模式，認證所需時間周期較長。一般來說，面板光刻膠的驗證周期為1－2年，半導體光刻膠的驗證周期為2－3年，同時因為半導體光刻膠的種類多，各個客戶的測試要求和流程也有不同，因此，送測驗證的時間不確定性很高。

——定制化需求加大生產難度

由于光刻膠的下游用戶是IC芯片和面板制造商，不同的客戶會有不同的應用需求，同一個客戶也有不同的光刻應用需求。因此，由于客戶的差異化、定制化需求，光刻膠產品種類繁多，主要通過配方技術來實現，是難度較高也是較核心的技術。

以半導體光刻膠的發(fā)展情況為例，隨著集成電路制程的演變，光刻膠技術需不斷更迭，產品種類也越來越多：

但從目前本土光刻膠企業(yè)的產能情況來看，截至2021年上半年末，可量產i／g  line膠的企業(yè)包括北京科華、晶瑞電材；可量產KrF的企業(yè)有北京科華；而其余產品目前基本無可量產的企業(yè)：

以上數據參考前瞻產業(yè)研究院《中國光刻膠行業(yè)市場前瞻與投資規(guī)劃分析報告》，同時前瞻產業(yè)研究院還提供產業(yè)大數據、產業(yè)研究、產業(yè)鏈咨詢、產業(yè)圖譜、產業(yè)規(guī)劃、園區(qū)規(guī)劃、產業(yè)招商引資、IPO募投可研、招股說明書撰寫等解決方案。

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來源：前瞻產業(yè)研究院